近期,由中國工程院、國家制造強國建設戰略咨詢委員會指導,國家產業基礎專家委員會編制的《產業基礎創新發展目錄(2021年版)》發布,國林科技子公司青島國林半導體技術有限公司的半導體制程專用超純高濃度臭氧裝置、新疆國林新材料有限公司的基于臭氧法的晶體乙醛酸一水合物制備基礎工藝分別入選環保、低碳及資源綜合利用裝備領域基礎制造工藝及裝備。
《產業基礎創新發展目錄(2021年版)》在《工業“四基”發展目錄(2016 年版)》基礎上,新增了工業基礎軟件,構成了“五基”(基礎零部件和元器件、基礎材料、工業基礎軟件、基礎制造工藝及裝備、產業技術基礎)創新發展目錄,成為我國完善產業基礎頂層設計的重要組成,也是產業基礎再造工程實施的重要抓手。
近年來,國林科技不僅深耕自身臭氧發生器生產制造領域,更是加大科研投入,加強技術攻關,在半導體清洗、新材料研發等領域不斷取得新的突破。
青島國林半導體技術有限公司研發的半導體制程專用超純高濃度臭氧裝置,采用無機超純材料與超純生產工藝,實現了極低金屬離子析出型的高純度、高濃度的臭氧制造,達到半導體行業超高潔凈度要求;通過自主創新實現整機與核心部件國產化。